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光学气体分析仪Quantus® HP100

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光学气体分析仪

Quantus® HP100

实时泄漏检测、端点检测和过程监控

INFICON Quantus HP100气体分析仪基于自等离子体光发射光谱技术(SPOES),旨在提供半导体制造过程中的实时泄漏检测、端点检测和过程监控。Quantus HP100具有出色的灵敏度,外形紧凑,提供宽广的操作压力范围,无需昂贵的泵,因此非常适合大多数半导体工具的过程监控和保护。

特点

  • 氩气的操作范围为1 Torr - 450 Torr,氮气的操作范围为1 Torr - 120 Torr(其他气体种类则有所不同)

  • 低检测限<1 ppm

  • 使用标准KF25连接,安装方便

  • 快速采样(最大20赫兹)

  • 占地面积小(高x宽x长):6.4 x 6.0 x 8.3 in. [162 x 153 x 210 mm]

  • 低维护,不需要泵或消耗品

  • 方便的现场可更换的等离子池

  • 为您的特殊工艺需求提供全球专家支持

规格

操作压力1 Torr - 450 Torr (取决于应用)


光谱仪性能200至850纳米波长(紫外-可见光) 16位全尺度分辨率,3648像素


检测极限< 1 ppm (取决于应用)


曝光时间最少1毫秒


真空配件KF25