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HiPace 80 Neo 涡轮分子真空泵

产品咨询:

HiPace 80 Neo

涡轮分子真空泵

坚固耐用

集成转子测温系统,在整个热运行范围内均性能可靠

静音

得益于专利激光平衡技术,实现低噪音和振动水平,非常适合对振动敏感的应用

灵活

易于集成到小型分析系统中,重量轻,便于携带

技术规格

技术参数HiPace 80 Neo,搭配 TC 80
氢气抽速48 l/s
氦气抽速58 l/s
氩气抽速66 l/s
氮气抽速67 l/s
氢气压缩比1.4 · 10⁵
氦气压缩比1.3 · 10⁷
氩气压缩比1 · 10¹¹
氮气压缩比1 · 10¹¹
最终转速下的氢气气体流量15.3 hPa l/s
最终转速下的氦气气体流量2.7 hPa l/s
最终转速下的氩气气体流量0.54 hPa l/s
最终转速下的氮气气体流量1.3 hPa l/s
适用于氮气的最大前级真空22 hPa
启动时间1.25 最小
可选通信接口通过 CIP 适配器实现 EtherCAT 和 Profinet 通信
标准通信接口RS-485,远程
安装方向任意
声压级(EN ISO 2151)48 dBA
重量(约)1.7 kg
进气口DN40/DN 63 ISO-K/ISO-KF/CF-F
排气口G 1/4"

抽速

市场和应用

车辆及运输
  • 泄漏检测和 EoL 测试
  • 太空探索
  • 3D 打印
电池
  • 泄漏检测和 EoL 测试(主控)
化学品
  • 实验室真空
氢能经济
  • 泄漏检测和 EoL 测试(主控)
医疗
  • 实验室真空
  • 质谱仪
冶金
  • 3D 打印
制药与生物技术
  • 实验室真空
发电
  • 绿色能源生产
研发
  • 高能物理
  • 光子学研究
  • 太空探索
  • 超高真空
  • 低温工程
  • 等离子体物理
  • 实验室真空
  • 质谱分析
制冷和空调
  • 泄漏检测和 EoL 测试
科学仪器
  • 质谱分析
  • 表面分析
  • 电子显微镜
半导体
  • LPCVD / 扩散
  • 剥离 / 灰化
  • PVD
  • 检验与计量
  • Si Poly etch
  • 轻沉积
  • 离子注入
  • PECVD
  • 光刻技术
  • 金属和高 K 蚀刻
  • 氧化物蚀刻
  • Load lock 和 传输
  • ALD
技术气体
  • 装瓶
薄膜镀层
  • 装饰涂层
  • 实验室涂层
  • 耐磨损涂层

配件

  • 电气适配器

  • 电源线

  • 连接电缆

  • CIP 适配器

  • 电源套件和显示装置

  • 压力传感器

  • 安装套件

  • 安全阀

  • 排气配件

  • 排气装置电源故障

  • 减振器